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產(chǎn)品中心分散機研磨分散機GMSD2000芳綸纖維涂覆隔膜濕法研磨分散機
產(chǎn)品簡介
芳綸纖維涂覆隔膜濕法研磨分散機是該隔膜生產(chǎn)專用設備，通過濕法研磨腔高速剪切、研磨，將芳綸纖維均勻分散并與涂覆液混合，形成穩(wěn)定涂覆體系。可精準控制纖維分散度與粒徑，保障涂層均勻性，適配隔膜連續(xù)化涂覆工藝。
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思峻研磨分散機設計du特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。
芳綸纖維涂覆隔膜是以超短芳綸纖維為主，配加芳綸沉析纖維抄造而成，通過調整纖維配方和成型工藝可滿足電池隔膜特定的透氣性和孔隙率要求，電池隔膜可實現(xiàn)電池正負極的機械隔離功能，同時保證低的電阻和高的離子電導率，還具有足夠的電化學穩(wěn)定性。即具有優(yōu)異的耐溫性高清度、耐疲勞性能、低變性、耐火阻燃性能、耐化學腐蝕性，比重小等優(yōu)點，可廣泛用于能、各種離子電池的制造中。
GRS2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
太倉希德的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換(我們提供了2P，2G，4MI，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇)思峻研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產(chǎn)設備轉速的4-5倍。
芳綸纖維涂覆隔膜濕法研磨分散機設備型號參數(shù)表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
表中上限處理量是指介質為“水"的測定數(shù)據(jù)。
處理量取決于物料的粘度，稠度和最終產(chǎn)品的要求。
如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。
本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。
本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料；物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。
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