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產(chǎn)品中心分散機研磨分散機GMSD2000GMSD2000/4 溶膠研磨分散機 混合設備
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GMSD2000/4 溶膠研磨分散機 1.設備名稱：溶膠研磨分散機,溶膠研磨設備,德國研磨分散機,實驗室研磨分散機,進口研磨分散機,研磨分散機廠家,研磨分散機價格
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2.溶膠特征：
（1）分散相粒子大小在1—100nm范圍，且分散相在分散介質(zhì)中的溶解度很小。分散相和分散介質(zhì)存在分界面，因此它是高度分散的多相體系，粘度比真溶液大；
（2）溶膠不穩(wěn)定，膠粒具有自動凝結(jié)變大的趨勢，放置較長一段時間后，也會沉淀出來，但是短時間內(nèi)具有一定穩(wěn)定性；
（3）膠體沉淀后，如果再放入分散介質(zhì)也不會再自動形成溶膠，因此沉淀是不可逆的過程。
效果好的溶膠，粒子應該是分散均勻且無抱團現(xiàn)象，這就需要有高的剪切力，國產(chǎn)研磨分散機轉(zhuǎn)速較低，轉(zhuǎn)定子間隙較大，不能滿足實驗生產(chǎn)的需要。SGN公司研發(fā)的高剪切研磨分散機，轉(zhuǎn)速具有14000轉(zhuǎn)，采用德國的高精密設備加工轉(zhuǎn)定子，使得間隙可以控制的很小，加上高的轉(zhuǎn)速，可以有效分散細小顆粒，解決抱團的問題。
3.溶膠制備方法：
由于制備溶膠要求分散質(zhì)以交替狀態(tài)分布于介質(zhì)中，而且這種分散體系能在穩(wěn)定劑存在下能夠穩(wěn)定下來。從粒子大小看，由于溶膠粒子小于可濾出的粒子，而大于一般溶液的小分子：將大塊物質(zhì)利用研磨分散機等手段，磨成直徑0.1—1μm的粒子，即分散法。
GMSD2000/4 溶膠研磨分散機
4.溶膠研磨分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。
分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。
GMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
5.溶膠研磨分散機設備選型表：
型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMSD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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